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《处理光致抗蚀剂层资料》包括专利技术全文资料12份。
0001)用光化学处理提供巨磁阻研磨板组织形成物的方法和设备

0002)浸润式光刻的方法及其处理方法

0003)在制作印制电路板的过程中处理金属包裹层压板的处理方法和系统

0004)光致抗蚀剂用剥离液以及使用该剥离液的基板处理方法

0005)光致抗蚀剂层的表面处理方法及光致抗蚀剂层的形成方法

0006)用于处理半导体器件的光掩模的方法

0007)含有表面活性剂的处理溶液

0008)等离子体处理法、等离子体蚀刻法、固体摄像元件的制法

0009)返工处理方法

0010)水蒸汽作为处理气，用于离子植入后抗蚀剂剥离中硬壳、抗蚀剂和残渣的去除

(1012948(*)氟硅玻璃层表面处理的方法
(1012948(*)基片处理装置


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