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《镶嵌蚀刻资料》包括专利技术全文资料93份。
0001)蚀刻介电层形成接触窗和介层窗的方法以及镶嵌工艺

0011)具有规则镶嵌构造轮廓的制造方法
0012)制造铜镶嵌结构的方法
0013)采用牺牲金属氧化物层形成双镶嵌金属互连的方法
0014)包含苯乙烯(*)半导体存储器件及其使用镶嵌栅极和外延生长的制造方法
0016)介层洞优先双镶嵌制程
0017)使用碳掺杂层和无碳氧化物层的双镶嵌工艺
0018)大型玻璃镶嵌壁画的工艺方法
0019)应用硅过饱和氧化层的双镶嵌制程及其构造
0020)水晶玻璃镶嵌金属蚀刻画
0021)镶嵌式艺术铜门
0022)铜金属镶嵌工艺及其结构
0023)双金属镶嵌互连的制造方法
0024)形成双重镶嵌图案的方法
0025)双镶嵌式开口结构的制作方法
0026)用于形成双金属镶嵌结构工艺的洗涤液及基板处理方法
0027)形成多层低介电常数双镶嵌连线的制程
0028)无凹陷铜镶嵌结构的制造工艺
0029)预防双重金属镶嵌结构的金属漏电的氮化物阻障层
0030)在镶嵌制程中形成金属电容器的方法及其产品
0031)铜金属镶嵌结构
0054)用以制造半导体装置的双镶嵌制程
0064)镶嵌式内连线结构的制造方法
0065)形成金属镶嵌结构的方法
0066)利用超临界流体处理的双镶嵌结构及其形成方法
0067)在铜镶嵌制程中制作MIM电容器的方法
0068)双重金属镶嵌结构的制造方法
0069)阻绝气体释放及凸出结构产生的双镶嵌方法
0070)通过形成镶嵌互连制造半导体器件的方法
0071)镶嵌结构的位元线接触窗插塞的制作方法
0072)金属镶嵌制程的去除光阻的方法
0073)在形成有导电结构的半导体基底表面形成双镶嵌结构的方法
0074)于镶嵌结构中制造磁性随机存取内存补偿单元的方法
0075)制造双重镶嵌接触窗的方法
0076)自动对准镶嵌栅极
0077)衰减镶嵌相移光掩模空白片
0078)一种制作双镶嵌结构的方法
0079)形成无蚀刻停止层的双镶嵌结构的方法
0080)应用于约束等离子体反应室的半导体双镶嵌蚀刻制作过程
0081)在双重镶嵌方法中的低介电常数的阻蚀刻层
0082)以镶嵌工艺形成栅极的方法
0083)形成镶嵌结构的方法
0084)双重金属镶嵌结构的制造方法
0085)半导体元件及制造镶嵌结构中的金属绝缘金属电容的方法
0086)半导体装置、镶嵌结构及互连线结构的形成方法
0087)具有含气隙的镶嵌结构的半导体器件的制造方法
0088)具有镶嵌形成的配线的半导体器件及其制造方法
0089)具有电容器的双镶嵌构造及其制造方法
0090)形成半导体镶嵌结构的蚀刻制程
0091)双镶嵌金属内连线结构及其制作方法
0092)镶嵌铜布线图像传感器
0093)防止镶嵌式铜金属受损的结构及其方法



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